先端DRAMのドライレジスト下層膜・ドライ現像
2022年6月SEMICONDUCTOR ATLAS
ラムリサーチ
Lam Research
エッチングを中心に成膜、レジスト除去、洗浄等を提供。三次元構造に深い穴を開け、薄い膜を均一に付ける難しさが装置性能と処理時間の双方に影響する。
NANDの積層数をそのまま売上倍率に変換せず、段数、加工時間、生産能力、顧客の設備転用を分解する。
プラズマエッチングCVD・ALD・めっきレジスト除去・洗浄
業績ドライバー・競争優位・質問は、公開資料をもとにした分析の着眼点です。売買推奨や業績予想ではありません。
この会社の工程を初歩から学ぶ
確認できた企業間の関係
装置用ガス・薬液供給等(個別納入機種は金額表で非開示)
Ichor FY2025:2025-12-26終了年度装置サブシステム等(顧客別比率は連結合算)
UCT FY2025:2025-12-26終了年度