ニューフレアテクノロジー

回路の原版となるマスクを電子ビームで描く装置を扱い、マスク検査とエピタキシャル成長にも展開する。ウエハを大量露光するスキャナとは別の場所で使われる。

マスクの複雑化が描画時間を増やす効果と、描画方式の改善による能力増を比較する。

非上場企業として掲載。過去の上場証券コードを現行コードとして使わない。

業績ドライバー・競争優位・質問は、公開資料をもとにした分析の着眼点です。売買推奨や業績予想ではありません。

この版では相手先まで確認できた接続線を収録していません。取引がないという意味ではありません。