荏原製作所

CMP装置、ベベル研磨、めっき等を手掛ける。CMPでは研磨だけでなく洗浄・乾燥まで一体として制御し、次の回路形成に適した表面を用意する。

半導体関連でもCMPと真空ポンプは異なる需要単位を持つ。工程数、ウエハ量、顧客の装置稼働を製品ごとに分けて読む。

業績ドライバー・競争優位・質問は、公開資料をもとにした分析の着眼点です。売買推奨や業績予想ではありません。

この版では相手先まで確認できた接続線を収録していません。取引がないという意味ではありません。