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日本東証: 7731露光装置露光関連計測

複数波長・方式の半導体露光装置とウエハ計測製品を展開する。必要な線幅と重ね合わせ精度、処理能力に合わせた装置選択の中で位置づける。

EUV市場の動きのみで露光事業を判断せず、DUVや成熟工程の用途、保守・更新と新規投資を分ける。

ArF液浸・ドライKrF・i線Litho Booster
出典 ニコン · 公式資料
業績を動かすもの
  • 成熟・特殊プロセスの投資
  • 既設装置更新
  • 露光前のウエハ補正計測

確認するKPI

  • 半導体装置とFPD装置の区分
  • 露光機販売台数
  • 機種構成と採算
競争優位とリスクを見る

精密位置決め・光学・装置安定性の蓄積。

  • 顧客投資の変動
  • 機種構成による採算差
  • 技術移行
決算・取材で確かめたいこと
  • 売上増は新規装置か保守か
  • 対象工程で求められる精度・価格帯はどこか

業績ドライバー・競争優位・質問は、公開資料をもとにした分析の着眼点です。売買推奨や業績予想ではありません。

この会社の工程を初歩から学ぶ

この版では相手先まで確認できた接続線を収録していません。取引がないという意味ではありません。

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