ナノインプリントFPA-1200NZ2C
2017年7月、当時の東芝メモリSEMICONDUCTOR ATLAS
キヤノン
Canon
光学露光と、型を使ってパターンを形成するナノインプリント装置を展開する。ナノインプリントでは光学投影とは異なる欠陥・重ね合わせ・型管理の課題を評価する。
2017年の東芝メモリへの装置納入は公式確認できるが、現在の量産数量や置換率を意味しない。技術実証と収益規模を分ける。
光学露光装置FPAナノインプリント装置
業績ドライバー・競争優位・質問は、公開資料をもとにした分析の着眼点です。売買推奨や業績予想ではありません。