ウシオ電機
ランプ・レーザ・LED・露光・アライナ・光洗浄・改質・光加熱
製造・検査装置
ASMLの露光機、TELのトラック、マスク描画・検査、光源は、同じパターニング工程の中で異なる仕事をする。
初歩の説明は技術・事業の一般的な仕組みです。業績分析の欄は分析上の着眼点であり、個社の感応度を保証するものではありません。
ランプ・レーザ・LED・露光・アライナ・光洗浄・改質・光加熱
光学露光装置・FPAナノインプリント装置
半導体露光用エキシマレーザ
コータ・デベロッパ・仮接合・剥離・洗浄・薬液供給・回収
ArF液浸・ドライ・KrF・i線・Litho Booster
電子ビームマスク描画・マスク検査・エピタキシャル成長
EUVパターン付きマスク検査ACTIS・マスクブランクス検査ABICS・マスク検査MATRICS
電子ビーム描画装置・TEM・SEM
コータ/デベロッパ・プラズマエッチング・成膜・熱処理・洗浄
EUV・DUV露光装置・計算リソグラフィ・計測・検査
EUV・DUV光学系・High-NA EUV光学系・フォトマスク関連ソリューション
仮接合・剥離・ハイブリッド接合・NIL・リソグラフィ・計測
洗浄・塗布・現像・エッチング・EDS・実装関連
塗布・現像・リソグラフィ・接合・マスク洗浄