SEMICONDUCTOR ATLAS

日本製鋼所

Japan Steel Works

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日本東証: 5631レーザ熱処理装置

グループのJSWアクティナシステムが半導体向けレーザアニールを展開する。シリサイド形成や活性化などの処理を局所的に行う装置として位置づける。

FPD向けレーザ処理と半導体向け処理を分けて分析する。総合機械メーカー全体を半導体専業として比較しない。

YIELDSCANシリサイド形成活性化レーザアニール局所レーザアニール
出典 JSWアクティナシステム · 公式資料
業績を動かすもの
  • 材料・接点の熱処理高度化
  • 局所加熱
  • 研究用途から量産へ

確認するKPI

  • 半導体装置の採用
  • 機種別受注
  • 事業区分開示
競争優位とリスクを見る

光学・走査・局所温度制御の組合わせ。

  • 用途開拓の時間
  • FPD等との循環差
  • 連結開示の粒度
決算・取材で確かめたいこと
  • 量産用途はどの材料・工程に限定されるか

業績ドライバー・競争優位・質問は、公開資料をもとにした分析の着眼点です。売買推奨や業績予想ではありません。

この会社の工程を初歩から学ぶ

この版では相手先まで確認できた接続線を収録していません。取引がないという意味ではありません。

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