SEMICONDUCTOR ATLAS
アクセリス
Axcelis Technologies
イオンをウエハへ注入し、電気特性を決める加工装置を供給する。注入エネルギー・電流・量・角度等が装置選定を左右し、成膜装置とは異なる役割を担う。
パワー半導体の材料変化を注入工程と顧客能力投資に結び付ける。最終市場成長と過剰設備の調整を同時に見る。
Purionイオン注入装置
Veecoの2026年6月期Form 10-Qでは統合に中国当局の最終承認が必要で、2026年後半の完了予定と記載。本カードはその計画を完了扱いせず、個別製品を説明する。
業績ドライバー・競争優位・質問は、公開資料をもとにした分析の着眼点です。売買推奨や業績予想ではありません。
この会社の工程を初歩から学ぶ
この版では相手先まで確認できた接続線を収録していません。取引がないという意味ではありません。