SEMICONDUCTOR ATLAS

扶桑化学工業

Fuso Chemical

マップで企業間の関係を見る →
日本東証:4368CMP原料

液中に極めて小さいシリカ粒子を分散させたコロイダルシリカを製造する。研磨剤の主要原料であり、添加剤等を配合した完成CMPスラリーのメーカーとは役割が異なる。

粒径・形・不純物・凝集の制御が研磨品質に影響する。スラリーメーカーの在庫と半導体工場の生産の二段階で需要を確認する。

超高純度コロイダルシリカ
出典 扶桑化学工業 · 公式資料
業績を動かすもの
  • 先端CMP用原料採用
  • 研磨工程数と生産枚数

確認するKPI

  • 電子材料売上
  • 粒子グレード別構成
  • 新設備稼働率
競争優位とリスクを見る

超高純度化とナノ粒子の形状・分散制御。

  • 完成スラリーの処方変更
  • 能力増強の費用先行
決算・取材で確かめたいこと
  • 粒子使用量削減は高機能品の単価で補えるか
  • 顧客側在庫の適正水準はどの程度か

業績ドライバー・競争優位・質問は、公開資料をもとにした分析の着眼点です。売買推奨や業績予想ではありません。

この会社の工程を初歩から学ぶ

この版では相手先まで確認できた接続線を収録していません。取引がないという意味ではありません。

同じ工程に関わる企業