AGC

EUV露光に使うフォトマスクの土台となるマスクブランクスを供給する。平坦で熱による寸法変化を抑えた基材と、光を反射する多層膜などの品質が回路形成を左右する。

ガラスの量産技術だけでなく欠陥管理が必要。EUV装置台数ではなく顧客の設計・開発案件や使用層数との関係を確認する。

業績ドライバー・競争優位・質問は、公開資料をもとにした分析の着眼点です。売買推奨や業績予想ではありません。

この版では相手先まで確認できた接続線を収録していません。取引がないという意味ではありません。