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フジミインコーポレーテッド

日本 · 東証:5384

会社全体の見取り図

シリコンウェーハ、デバイスのCMP、その他精密加工向けの研磨材等を開発・製造します。材料を均一な粒子や液に仕上げ、顧客の対象物を狙い通り研磨できることが価値です。装置の販売ではなく、工程で使われる消耗材料が中心です。

主な事業を理解するための整理です。報告セグメントの完全な一覧や売上構成比ではありません。子会社・事業部門を掲載する場合は、その主体を明記しています。

この製造フローでは何を担う?

ウエハの研磨や半導体デバイスのCMPに使う研磨材を供給する。CMPでは異なる材料を同時に加工し、傷を増やさず表面を平らにする必要がある。

CMPスラリーウエハ研磨材

誰に、何を売っている?

材料・部材・製品の販売が入口。採用後の使用量、製品仕様、単価、原料費、設備稼働を分けて確認します。

もう一段詳しく:事業を動かすもの
  • CMP工程数と新材料採用
  • 半導体ウエハ投入量

確認する指標

  • 用途別研磨材売上
  • 先端CMP構成
  • 顧客近接開発費

競争力と制約

粒子・薬液・装置条件を組み合わせた加工最適化。

  • 処方置換と顧客集中
  • 新材料への開発負担
企業分析へ進むための問い
  • 新工程で単位使用量と単価はどう変わるか
  • 顧客装置上の評価期間は短縮できるか

事業の見方・確認事項は編集上の分析視点です。会社の業績予想や売買推奨ではありません。

事業・製品の原資料

工程の説明と企業の製品情報に用いた資料です。関連企業の掲載は、特定の顧客への採用・取引額・供給比率を意味しません。

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